フォトクロミック膜被覆層を有する物品の製造方法およびその眼科光学用途

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：渡辺望稔 , 三和晴子
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008552863
Publication number (International publication number)：2009525497
Application date： Jan. 31, 2007
Publication date： Jul. 09, 2009
Summary：

本発明は、a)無機前駆物質、少なくとも1つの有機溶媒、水、少なくとも1つの孔形成剤および少なくとも1つの疎水性基をもつ1つの疎水性前駆物質を含むメソポア膜の前駆体ゾルの製する;b)基材の主表面上に前駆体ゾルの膜を堆積する;c)前工程で得られた膜から孔形成剤を温度≦150°Cで除去する;d)工程c)で得られるメソポア膜を、少なくとも1つのフォトクロミック試薬含有溶液を用いて含浸する工程を含むメソポアフォトクロミック膜の被覆層を有する基材の製造方法に関する。別の態様では、フォトクロミック試薬を前駆体ゾル中に直接導入する。該別の態様に代わるさらに別の態様では、前駆体ゾルは、疎水性前駆物質をまったく含まないが、フォトクロミック膜は、その調製に続く処理により疎水性とされる。

Claim (excerpt)：

a)-下記式で示される化合物から選ばれる無機前駆物質: M(X)4 (I) 式中、X基は、互いに同一でも異なっていてもよく、好ましくはアルコキシ、アシロキシおよびハロゲン基から選ばれる加水分解性基、好ましくはアルコキシであり、かつMは、4価の金属または半金属、好ましくはケイ素であり; -少なくとも1つの有機溶媒; -少なくとも1つの孔形成剤; -水;および -任意に、X基を加水分解するための触媒を含有するメソポア膜の前駆体ゾルを調製し、 b)基材の主表面上に、前記前駆体ゾルの膜を堆積し; c)任意に、前記堆積された膜を固化し; d)前工程で得られた膜から孔形成剤を除去し、メソポア膜を形成し; e)工程d)で得られたメソポア膜に、少なくとも1つのフォトクロミック試薬を含む溶液を含浸させ;その後 f)メソポアフォトクロミック膜被覆層を有する基材を回収する; 工程を含む方法であって、 (I)前記孔形成剤の除去が、温度≦150°C、好ましくは≦30°C、より好ましくは≦120°C、さらに好ましくは≦110°Cの温度で行なわれ;かつ (II)該方法が、前駆体ゾル膜の堆積工程b)に先だって、前記前駆体ゾル中に少なくとも1つの疎水性基をもつ少なくとも1つの疎水性前駆物質を導入する工程を含むことを特徴とする、メソポアフォトクロミック膜の被覆層を有する基材の製造方法。

IPC (5)：

G02B 5/23 , G02B 1/10 , G02C 7/10 , C09K 9/02 , B32B 9/00

FI (5)：

G02B5/23 , G02B1/10 Z , G02C7/10 , C09K9/02 B , B32B9/00 A

F-Term (41)：

2H006BE02 , 2H048DA04 , 2H048DA05 , 2H048DA14 , 2H048DA24 , 2K009BB11 , 2K009CC03 , 2K009CC21 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 2K009DD06 , 4F100AA01B , 4F100AA02A , 4F100AG00B , 4F100AK01B , 4F100AK25B , 4F100AK41B , 4F100AK45B , 4F100AK51B , 4F100AK53B , 4F100AK57B , 4F100AK68B , 4F100AR00C , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100CA30A , 4F100EJ42A , 4F100EJ65C , 4F100EJ91B , 4F100GB41 , 4F100JK09C , 4F100JK10C , 4F100JK12C , 4F100JM01A , 4F100JN06C , 4F100JN08 , 4F100JN08A , 4F100YY00A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

仏国特許発明第2795085号明細書
フォトクロミック膜、及びフォトクロミック膜の作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-028561 Applicant：キヤノン株式会社
国際公開第02/41043号パンフレット

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Cited by examiner (7)

フォトクロミック膜、及びフォトクロミック膜の作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-028561 Applicant：キヤノン株式会社
多孔性シリカ薄膜型光記録材料とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-047225 Applicant：独立行政法人科学技術振興機構
保存安定性に優れた多孔質シリカ形成用の前駆体溶液、および多孔質シリカの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-015049 Applicant：三井化学株式会社

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