洗浄方法および洗浄装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：野▲崎▼ 照夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996072175
Publication number (International publication number)：1997255998
Application date： Mar. 27, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】液晶基板やICなどの電子部品のウエット洗浄において、酸性やアルカリ性の溶液による基板の洗浄では、基板にダメージを与えてしまう。また、超純水は洗浄力が弱く、基板表面の付着物が除去されにくかった。【解決手段】オゾン水と酸性溶液またはアルカリ性溶液を混合して、酸化力があり且つ酸性の洗浄水?@または、酸化力があり且つアルカリ性の洗浄水?Bを生成する。また、水素水と酸性溶液またはアルカリ性溶液を混合して還元力があり且つアルカリ性の洗浄水?Aあるいは、還元力があり且つ酸性の洗浄水?Cを生成する。これらの洗浄水は洗浄力が高く、ORPやpHをそれぞれ調節できる。よって、被洗浄物の製造工程における付着物の種類に応じて洗浄水を選択でき、1つの洗浄水で複数種の付着物を洗浄できる。

Claim (excerpt)：

酸化力があり且つアルカリ性の洗浄水で被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (9)：

C11D 11/00 , B08B 3/08 , C11D 7/02 , C11D 7/18 , C11D 7/60 , C11D 7:18 , C11D 7:08 , C11D 7:02 , C11D 7:06

FI (5)：

C11D 11/00 , B08B 3/08 A , C11D 7/02 , C11D 7/18 , C11D 7/60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

半導体基板のウエット処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-056109 Applicant：日本電気株式会社
特開平2-164035
特開平1-099221

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