化学増幅系レジスト

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：若林忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997056357
Publication number (International publication number)：1998254137
Application date： Mar. 11, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】現像後のレジストパターンがテーパー形状になることを防止し、解像性、焦点深度、寸法精度等に優れ、同時にドライエッチング耐性及び耐熱性にも優れたArF用化学増幅系レジストを提供する。【解決手段】脂環式アクリル系樹脂と光酸発生剤とを含んで成るレジストに、芳香環を有する樹脂を添加したArF用化学増幅系レジスト。芳香環を有する樹脂としては、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、t-BOC保護型ポリヒドロキシスチレン樹脂等が好ましく、その添加量はベース樹脂100重量部に対し1〜10重量部程度が好ましい。

Claim (excerpt)：

脂環式アクリル系樹脂と光酸発生剤とを含んで成る化学増幅系レジストにおいて、芳香環を有する樹脂が添加されたことを特徴とする化学増幅系レジスト。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08L 25/18 , C08L 33/04 , C08L 61/08 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08L 25/18 , C08L 33/04 , C08L 61/08 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-097140 Applicant：日本ゼオン株式会社
感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-221230 Applicant：株式会社東芝
感光性組成物及び感光性平版印刷版
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-152622 Applicant：コニカ株式会社, 三菱化学株式会社

Show all

Return to Previous Page