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J-GLOBAL ID：200903038277801127

研削・研磨用真空チャック

Inventor：
石川 茂治

About 石川 茂治

, 
桐山 勝之

About 桐山 勝之


Applicant, Patent owner：
イビデン株式会社

About イビデン株式会社


Agent (2)： 安富 康男 ,  重平 和信
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004093574
Publication number (International publication number)：2005279789
Application date： Mar. 26, 2004
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：
【課題】被吸着体の均一な研磨を実現することができる研削・研磨用真空チャックを提供する。【解決手段】少なくとも多孔質セラミックスからなる吸着層12と空気の透過を遮断する環状隔壁層16a〜16cとから構成された、被吸着体を吸着、保持するための吸着板18を備え、環状隔壁層は、非酸化物系セラミックス粉末が配合されたガラスにより形成されている。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
少なくとも多孔質セラミックスからなる吸着層と空気の透過を遮断する環状隔壁層とから構成された、被吸着体を吸着、保持するための吸着板を備え、 前記環状隔壁層は、非酸化物系セラミックス粉末が配合されたガラスにより形成されていることを特徴とする研削・研磨用真空チャック。
IPC (3)：
B24B37/04 ,  B23Q3/08 ,  H01L21/304
FI (3)：
B24B37/04 H ,  B23Q3/08 A ,  H01L21/304 622H
F-Term (7)：
3C016DA05 ,  3C016DA08 ,  3C016DA11 ,  3C058AA07 ,  3C058AB04 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
  • 吸着盤及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-287976   Applicant：京セラ株式会社
  • 真空吸着装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-077520   Applicant：株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社

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