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J-GLOBAL ID:200903038587630306
光学的測定装置及びそれを用いた特異的結合物の光学的測定方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004125684
Publication number (International publication number):2005156527
Application date: Apr. 21, 2004
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
【課題】 本発明は、特異的結合物をB/F分離を行わず、高速で感度及び精度よく測定しうる光学的測定装置を提供する。【解決手段】 流体試料中の特異的結合物を光学的に測定する装置であって、蛍光標識又は光散乱標識が結合された第2の特異的結合メンバーと結合した被測定物質と、特異的に結合して前記特異的結合物を構成しうる第1の特異的結合メンバーが、一表面に固定されている反応部と、出光側縁面を有する透明な導波路の他表面に透明な中間層及び光吸収層が順次積層されており、導波路の屈折率をnw 、中間層の屈折率をnm 、液体試料の屈折率をns とすると、各屈折率が下記式(1)を満足することを特徴とする光学的測定装置。nw >nm ≧ns ・・・(1)【選択図】 図7
Claim (excerpt):
流体試料中の特異的結合物を光学的に測定する装置であって、
蛍光標識又は光散乱標識が結合された第2の特異的結合メンバーと結合した被測定物質と
、特異的に結合して前記特異的結合物を構成しうる第1の特異的結合メンバーが、一表面
に固定されている反応部と、出光側縁面を有する透明な導波路の他表面に透明な中間層及
び光吸収層が順次積層されており、導波路の屈折率をnw 、中間層の屈折率をnm 、流料
の屈折率をns とすると、各屈折率が下記式(1)を満足することを特徴とする光学的測
定装置。
nw >nm ≧ns ・・・(1)
IPC (2):
FI (3):
G01N21/64 Z
, G01N33/543 575
, G01N33/543 595
F-Term (19):
2G043BA16
, 2G043CA03
, 2G043DA02
, 2G043DA06
, 2G043EA01
, 2G043GA07
, 2G043GA08
, 2G043GB02
, 2G043GB16
, 2G043HA05
, 2G043JA02
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA03
, 2G043KA05
, 2G043KA08
, 2G043KA09
, 2G043LA01
, 2G043LA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
蛍光免疫測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-211628
Applicant:ダイキン工業株式会社
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光散乱により特異的結合事象を検出するための光導波路法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-511040
Applicant:アボツト・ラボラトリーズ
Cited by examiner (7)
-
特表平4-501612
-
顕微鏡試料載置用基板及びそれを用いた試料照明方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-071576
Applicant:工業技術院長
-
光学分析用チップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-379216
Applicant:三菱化学株式会社
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希土類金属錯体を用いる分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-177440
Applicant:株式会社ヤトロン, 松本和子
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蛍光標識試薬
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-087830
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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蛍光免疫測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-211628
Applicant:ダイキン工業株式会社
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エバネッセント照明を用いる分子蛍光解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-097879
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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