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J-GLOBAL ID:200903059078587873
フォトレジスト組成物
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997233670
Publication number (International publication number):1998177250
Application date: Aug. 29, 1997
Publication date: Jun. 30, 1998
Summary:
【要約】【課題】 感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイルなどの諸性能に優れ、特にタイム・ディレイ効果耐性に優れた、化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、脂肪族性水酸基を有する3級アミン化合物(C)の各成分を含有するポジ型フォトレジスト組成物。この組成物はさらに、酸化還元電位が1.7 eV 以下の電子供与体(D)を含有することもできる。【効果】 環境による影響を受けにくく、また解像性に優れ、高感度で良好なプロファイルを与える。
Claim (excerpt):
アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、脂肪族性水酸基を有する3級アミン化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-312669
Applicant:日本ゼオン株式会社
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フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-005794
Applicant:住友化学工業株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-051595
Applicant:三菱化学株式会社
-
架橋基を有する高分子化合物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-110396
Applicant:信越化学工業株式会社
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スルホン酸エステル化合物およびその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-290093
Applicant:住友化学工業株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-104590
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-027847
Applicant:三菱化学株式会社
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