ニトリル型疎水性ブロックを有するスルホン化ポリマーおよび固体高分子電解質

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：鈴木俊一郎 , 牧村浩次 , 高畑ちより , 鈴木亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004284691
Publication number (International publication number)：2005133081
Application date： Sep. 29, 2004
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【解決課題】スルホン酸基の導入量を増加しても優れた耐熱水性を有するスルホン化ポリマー、および該スルホン化ポリマーからなるプロトン伝導度が高く、発電性能に優れた固体高分子電解質を提供すること。【解決手段】本発明のスルホン化ポリマーは、下記一般式(1’)で表される繰返し単位を有することを特徴とする。【化1】(式中、Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、R1〜R3は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、ニトリル基またはアルキル基であり、nは2以上の整数であり、Qは下記一般式(q)で表される構造を示す。)【化2】(式中、Aは独立に2価の原子もしくは有機基または直接結合であり、R4〜R11は互いに同一でも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基または芳香族基である。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されることを特徴とする化合物。

IPC (2)：

C08G61/12 , H01B1/06

FI (2)：

C08G61/12 , H01B1/06 A

F-Term (8)：

4J032CA04 , 4J032CB03 , 4J032CB04 , 5G301CA30 , 5G301CD01 , 5H026AA06 , 5H026CX04 , 5H026EE18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

米国特許第5,403,675号公報

Cited by examiner (8)

芳香族ポリエーテルの製造法及び芳香族ポリエーテル
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-090431 Applicant：出光興産株式会社
ポリシアノアリールエーテル系樹脂の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-229685 Applicant：出光興産株式会社
高純度ポリシアノアリールエーテルの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-067287 Applicant：出光石油化学株式会社

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