露光装置の検査方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998187624
Publication number (International publication number)：2000021732
Application date： Jul. 02, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】露光装置を分解せずに簡便かつ迅速に検査する。【解決手段】光源と、該光源から射出される光をフォトマスクに導く照明光学系1と、該フォトマスクの縮小投影像をウェハ5上に転写する投影光学系3から構成される露光装置の光源形状と、投影光学系3の瞳4の形状と、該光源形状と瞳4の形状との同心度を検査する露光装置の検査方法において、光源から射出される光を、有限の周期で透光部と遮光部が繰り返された格子パターンを含むレチクル2に照射し、レチクル2を通過した1次以上の回折光を投影光学系3の瞳4の外縁に照射させ、かつデフォーカス状態でレチクル2のパターン像をウェハ5上に露光する。

Claim (excerpt)：

光源と、該光源から射出される光をフォトマスクに導く照明光学系と、該フォトマスクの縮小投影像をウェハ上に転写する投影光学系とから構成される露光装置に対し、前記光源形状と、前記投影光学系の瞳形状と、該光源形状と瞳形状との同心度を検査する露光装置の検査方法において、前記光源から射出される光を、有限の周期で透光部と遮光部が繰り返された周期パターンを含む光学部材に照射し、該光学部材を通過した1次以上の回折光を前記投影光学系の瞳外縁に照射させ、かつデフォーカス状態で前記光学部材のパターン像を前記ウェハ上に露光することを特徴とする露光装置の検査方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 514 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 V

F-Term (5)：

5F046AA28 , 5F046CA04 , 5F046CB22 , 5F046CB25 , 5F046DA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

フォトマスクおよび半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-272961 Applicant：三菱電機株式会社
フォトマスク及び露光方法並びに投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-006406 Applicant：株式会社ニコン
特開平3-065623

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