プラズマCVD装置及びプラズマ表面処理方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：木村満
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006247972
Publication number (International publication number)：2007119908
Application date： Sep. 13, 2006
Publication date： May. 17, 2007
Summary：

【課題】電子放出特性に優れた電極を製造するプラズマCVD装置を提供する。【解決手段】チャンバー10内の陽極11aの載置面に基板1が載置される。陽極に対向する陰極13には流路13aが形成され、冷却水が通される。陽極11aと陰極13とに電圧を印加して、プラズマにより基板1上に、カーボンナノウォールの層を形成し、その後、陽極11aを冷却部材12で冷却して基板1を所定の温度に急冷する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

処理対象体が載置される載置面及び第1の電極を有する載置台と、前記第1の電極に対向し、前記第1の電極との間でプラズマを発生させる第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電圧設定部と、前記処理対象体から熱を奪う冷却部材と、を備えることを特徴とするプラズマCVD装置。

IPC (8)：

C23C 16/44 , C23C 16/509 , C23C 16/46 , C23C 16/26 , C01B 31/02 , C01B 31/06 , H01L 21/31 , H01L 21/314

FI (8)：

C23C16/44 Z , C23C16/509 , C23C16/46 , C23C16/26 , C01B31/02 101Z , C01B31/06 A , H01L21/31 C , H01L21/314 M

F-Term (65)：

4G146AA01 , 4G146AA04 , 4G146AA07 , 4G146AA19 , 4G146AB07 , 4G146AC02B , 4G146AC03B , 4G146AC15B , 4G146AC16B , 4G146AC17B , 4G146AD23 , 4G146AD29 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BC07 , 4G146BC09 , 4G146BC25 , 4G146BC33B , 4G146BC34B , 4G146DA16 , 4G146DA41 , 4K030BA27 , 4K030BA28 , 4K030BB11 , 4K030FA03 , 4K030KA18 , 4K030KA26 , 5C127AA01 , 5C127DD09 , 5C127EE15 , 5F045AA08 , 5F045AB07 , 5F045AC07 , 5F045AD12 , 5F045AD13 , 5F045AD14 , 5F045AD15 , 5F045AE23 , 5F045AE25 , 5F045AE29 , 5F045AE30 , 5F045BB04 , 5F045EH08 , 5F045EH09 , 5F045EH19 , 5F045EJ02 , 5F045EJ03 , 5F045EJ05 , 5F045EJ09 , 5F045EM10 , 5F045GB05 , 5F045GB11 , 5F045HA16 , 5F045HA22 , 5F045HA23 , 5F058AA08 , 5F058AA10 , 5F058AD12 , 5F058BA12 , 5F058BC14 , 5F058BF07 , 5F058BG01 , 5F058BG03 , 5F058BG10 , 5F058BH01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

ダイヤモンド様炭素膜積層体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-307435 Applicant：科学技術振興事業団, ミツミ電機株式会社
堆積膜形成方法、堆積膜形成装置、電子写真感光体の製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-015844 Applicant：キヤノン株式会社
ダイヤモンド薄膜の気相合成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-168238 Applicant：岩谷産業株式会社, イワタニプランテック株式会社

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Cited by examiner (7)

堆積膜形成方法、堆積膜形成装置、電子写真感光体の製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-015844 Applicant：キヤノン株式会社
ダイヤモンド薄膜の気相合成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-168238 Applicant：岩谷産業株式会社, イワタニプランテック株式会社
炭素薄膜成膜方法および成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-069986 Applicant：松下電器産業株式会社

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