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J-GLOBAL ID：200903041254660675

ポジ型レジスト用塗布組成物、及びポジ型レジストパターンの形成方法

Inventor：
前田 繁宏

About 前田 繁宏


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998057413
Publication number (International publication number)：1999202492
Application date： Jan. 14, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 保存安定性に優れ、調製後長時間経過した後でも良好なレジスト感度が得られるポジ型レジスト用塗布組成物を得る。【解決手段】 ポジ型レジスト用塗布組成物は、放射線照射により発生する酸の作用により放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成する塗布組成物であって、溶剤として、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステルを含む。前記塗布組成物は、例えば、(A2)アルカリ可溶性樹脂、(B)感放射線性酸発生剤、(D)酸の作用により化学的に変化すると共に、該化学的変化を通じて、前記アルカリ可溶性樹脂(A2)の現像液に対する溶解性を増大可能な溶解性制御剤、及び(C)炭酸エステルを含む溶剤とで構成できる。
Claim (excerpt)：
放射線照射により発生する酸の作用により放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するポジ型レジスト用塗布組成物であって、溶剤として炭酸エステルを含むポジ型レジスト用塗布組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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