剥離剤組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999073798
Publication number (International publication number)：2000267302
Application date： Mar. 18, 1999
Publication date： Sep. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】高エネルギー処理を受けて硬化又は化学変質したレジストでも容易にかつ短時間で剥離し得る剥離剤組成物を提供すること。【解決手段】(A)有機酸及び/又はその塩、(B)水、(C)界面活性剤とを含有し、pHが8未満のレジスト用剥離剤組成物並びに該レジスト用剥離剤組成物を使用するレジスト剥離方法。

Claim (excerpt)：

(A)有機酸及び/又はその塩、(B)水、(C)界面活性剤とを含有し、pHが8未満のレジスト用剥離剤組成物。

IPC (2)：

G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B

F-Term (11)：

2H096AA25 , 2H096AA28 , 2H096BA10 , 2H096CA12 , 2H096DA01 , 2H096EA30 , 2H096GA09 , 2H096HA01 , 2H096HA24 , 2H096LA03 , 5F046LB10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

半導体素子製造用洗浄液及びそれを用いた半導体素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-211217 Applicant：株式会社日立製作所, 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 三菱瓦斯化学株式会社
水性リンス組成物及びそれを用いた方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-512904 Applicant：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
フォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-113809 Applicant：株式会社トクヤマ

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