ポジ型感放射線性樹脂組成物

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999060286
Publication number (International publication number)：2000258913
Application date： Mar. 08, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】特に半導体デバイス等の製造において、高感度、高解像力を示し、且つ従来両立しなかったハーフトーン位相差シフトマスク適正とサイドローブ光耐性が良好である化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供。【解決手段】酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマーと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の構造のアタール化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマーと、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)下記一般式(A)又は一般式(B)で表されるアタール化合物のうち少なくとも一種を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。【化1】式(A)又は(B)中、R1及びR2は、互いに独立して直鎖、分岐あるいは環状の炭素数1〜12個の置換基を有していてもよいアルキル基、又は炭素数7〜18個の置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-276565 Applicant：富士写真フイルム株式会社
遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-083199 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
アセタールの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-235598 Applicant：株式会社井上香料製造所, 株式会社ジャパンエナジー

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