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J-GLOBAL ID:200903056318436844
ポジ型感光性組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994246758
Publication number (International publication number):1996087107
Application date: Sep. 16, 1994
Publication date: Apr. 02, 1996
Summary:
【要約】【目的】 遠紫外領域の光を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応できる、高γ値を有する化学増幅型ポジ型フォトレジストを提供する【構成】 アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤および光によって発生した酸により反応しアルカリ可溶性となる化合物を主成分として含むポジ型感光性組成物において、ポリオキシアルキレン化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤および光によって発生した酸により反応しアルカリ可溶性となる化合物を主成分として含むポジ型感光性組成物において、ポリオキシアルキレン化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (4):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-073169
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-354297
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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特開平3-192361
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ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-300374
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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溶解阻止ホトレジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-304301
Applicant:日本電気株式会社
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パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-280883
Applicant:株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
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レジスト塗布組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-197814
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-172664
Applicant:三菱化学株式会社
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