プラズマ生成装置およびプラズマ生成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995238843
Publication number (International publication number)：1997082495
Application date： Sep. 18, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】サブハーフミクロンオーダに微細化が進んでも有効なプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】被処理基体11をプラズマ処理するところの処理チャンバ1および石英製円筒2からなる処理容器と、この処理容器内に導入されたプラズマ源ガス第1の高周波を供給する第1のコイル3などからなる第1の高周波供給手段と、第1の高周波と異なる第2の高周波をプラズマ源ガスに供給する第2のコイル4などからなる第2の高周波供給手段とを備えている。

Claim (excerpt)：

プラズマが生成される生成容器と、この生成容器の周囲または内部に設けられた2HMHz以上の高周波が供給される複数のコイルと、これら複数コイルの少なくとも一のコイルに他のコイルに供給する高周波とは異なる高周波を供給する高周波供給手段とを具備してなることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , C23C 16/50

FI (5)：

H05H 1/46 L , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , C23C 16/50 , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-307273 Applicant：国際電気株式会社
プラズマ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-013981 Applicant：東京エレクトロン株式会社
誘導RF結合を用いたプラズマ加工装置とその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-169619 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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