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J-GLOBAL ID：200903042131387903

表面欠陥確認装置ならびに該装置を用いた基板欠陥分析方法および液晶表示装置の基板欠陥分析方法

Inventor：
畑内 美和子

About 畑内 美和子


Applicant, Patent owner：
株式会社アドバンスト・ディスプレイ

About 株式会社アドバンスト・ディスプレイ


Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998216030
Publication number (International publication number)：2000046750
Application date： Jul. 30, 1998
Publication date： Feb. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】 マーキング作業を迅速に実施できるとともに、切り出したのちの基板試料片の分類および表面欠陥の分析を効率良く行なうことができる表面欠陥確認装置を提供する。【解決手段】 被検査基板K上の表面欠陥Pを確認する光学顕微鏡1と、前記表面欠陥Pの位置をマーキングするスタンプ2と、前記光学顕微鏡1の反射レンズ4または透過レンズ5の位置と前記表面欠陥Pの位置を一致させるように前記被検査基板Kを移送するステージ3とからなる表面欠陥確認装置であって、前記光学顕微鏡1の反射レンズ4を移動させるとともに、前記表面欠陥Pの位置に前記スタンプ2を移動させる切替え手段Aとスタンプ2を上昇および下降させる駆動手段Bとを備えている。
Claim (excerpt)：
被検査基板上の表面欠陥を確認する欠陥確認手段と、前記表面欠陥の位置をマーキングする欠陥位置特定手段と、前記欠陥確認手段の検査部の位置と前記表面欠陥の位置を一致させるように前記被検査基板を移送する基板移送手段とからなる表面欠陥確認装置であって、前記欠陥確認手段の検査部を移動させるとともに、前記表面欠陥の位置に前記欠陥位置特定手段を移動させる切替え手段と前記欠陥位置特定手段を上昇および下降させる駆動手段とを備えてなる表面欠陥確認装置。
F-Term (18)：
2G051AA42 ,  2G051AA73 ,  2G051AA90 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AC01 ,  2G051BA10 ,  2G051CA03 ,  2G051CB02 ,  2G051CB05 ,  2G051DA08 ,  2G051DA15 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
  • 顕微鏡試料前処理用アタッチメント及びこれを用いた破断面作製方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-135240   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開平3-046544
  • 特開平3-046544
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