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J-GLOBAL ID：200903042161917877

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
和田 健二

About 和田 健二


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005252017
Publication number (International publication number)：2007065353
Application date： Aug. 31, 2005
Publication date： Mar. 15, 2007
Summary：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (2)：
G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
F-Term (14)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB29 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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