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J-GLOBAL ID：200903043003171686

基板洗浄装置

Inventor：
井上 和保

About 井上 和保

, 
前澤 和秀

About 前澤 和秀


Applicant, Patent owner：
島田理化工業株式会社

About 島田理化工業株式会社


Agent (1)： 萩原 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007285430
Publication number (International publication number)：2009117422
Application date： Nov. 01, 2007
Publication date： May. 28, 2009
Summary：
【課題】基板の汚れ状況に対応して、不必要な洗浄時間を費やすことのないノズル方式による基板洗浄装置を提供することにある。【解決手段】基板80を設置して回転させる回転駆動部60と、基板80の表面に洗浄液75を供給するノズル10と、ノズル10に洗浄液75を供給する洗浄液供給部70と、ノズル10の基板80の表面上での位置を検出するノズル位置検出部20と、ノズル10を基板80の表面上で移動させるノズル移動部30と、ノズル位置検出部20の位置検出信号と外部から入力される基板80の汚れ検査情報信号とからノズル移動部30を制御するノズル移動制御部40とを有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基板を設置して回転させる回転駆動部と、 前記基板の表面に洗浄液を供給するノズルと、 前記ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、 前記ノズルの前記基板の表面上での位置を検出するノズル位置検出部と、 前記ノズルを前記基板の表面上で移動させるノズル移動部と、 前記ノズル位置検出部の位置検出信号と外部から入力される前記基板の汚れ検査情報信号とから前記ノズル移動部を制御するノズル移動制御部とを有し、 前記ノズル移動制御部は、前記位置検出信号と前記汚れ検査情報とを基に、前記ノズルの位置に応じて前記ノズルの移動速度をステップ状に切り替えて移動させることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (1)：
H01L 21/304
FI (2)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G
F-Term (12)：
5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157BB22 ,  5F157BB43 ,  5F157CB32 ,  5F157CD15 ,  5F157CE07 ,  5F157CE25 ,  5F157CE83 ,  5F157CF42 ,  5F157DB46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
  • 基板処理装置および基板処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-110684   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • ウェハーの洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-106382   Applicant：株式会社リコー
  • 基板洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-126709   Applicant：東京エレクトロン株式会社
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