Pat
J-GLOBAL ID:200903043408802527
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001011292
Publication number (International publication number):2001318466
Application date: Jan. 19, 2001
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物。感度、解像度、が基板への接着性に優れる。【解決手段】下式(I)で示される重合単位、下式(II)で示される重合単位、下式(III)で示される重合単位、(式中 、R1、R3は互いに独立に水素又はメチルを表し、R2はアルキルを、R4は水素又は水酸基を表す。R5及びR6は互いに独立に、水素、炭素数1〜3のアルキル、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル、カルボキシル、シアノ若しくは基-COOR7(R7はアルコール残基である)を表すか、又はR5とR6が一緒になって、-C(=O)OC(=O)- で示されるカルボン酸無水物残基を形成する。)並びに無水マレイン酸及び無水イタコン酸から選ばれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有する。
Claim (excerpt):
下式(I)で示される重合単位、下式(II)で示される重合単位、下式(III)で示される重合単位、(式中 、R1、R3は互いに独立に水素又はメチルを表し、R2はアルキルを、R4は水素又は水酸基を表す。R5及びR6は互いに独立に、水素、炭素数1〜3のアルキル、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル、カルボキシル、シアノ若しくは基-COOR7(R7はアルコール残基である)を表すか、又はR5とR6が一緒になって、-C(=O)OC(=O)- で示されるカルボン酸無水物残基を形成する。)並びに無水マレイン酸及び無水イタコン酸から選ばれる不飽和ジカルボン酸無水物から導かれる重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (10):
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F222/04
, C08F232/08
, C08K 5/00
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
FI (10):
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F222/04
, C08F232/08
, C08K 5/00
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
F-Term (46):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002BH021
, 4J002BK001
, 4J002EB106
, 4J002EQ036
, 4J002EU186
, 4J002EV016
, 4J002EV296
, 4J002FD146
, 4J100AJ08S
, 4J100AJ09S
, 4J100AK32S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AR09R
, 4J100BA03R
, 4J100BA16R
, 4J100BA20R
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04R
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53R
, 4J100BC55R
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA28
, 4J100DA61
Patent cited by the Patent: