感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000137757
Publication number (International publication number)：2001188347
Application date： May. 10, 2000
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】組成物としての保存安定性が優れ、かつ放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、3-(8’-シアノテトラシクロ[ 4.4.0.12,5 .17,10 ]ドデシル)(メタ)アクリレート等で代表される酸素含有極性基または窒素含有極性基を含有する脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸誘導体に由来する繰返し単位と、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート等で代表される脂環式骨格を有する他の(メタ)アクリル酸誘導体に由来する繰返し単位とを有する酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される繰返し単位および下記一般式(2)で表される繰返し単位を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子、炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のヒドロキシアルキル基を示し、Aは単結合または主鎖炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を示し、R2は下記式(i)(但し、R3 は炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基を示し、X1 は1価の酸素含有極性基または1価の窒素含有極性基を示す。)、式(ii) (但し、R4 は炭素数4〜20の3価の脂環式炭化水素基を示し、X2 は2価の酸素含有極性基または2価の窒素含有極性基を示す。)または式(iii)(但し、R5 は炭素数4〜20の4価の脂環式炭化水素基を示し、X3 は3価の酸素含有極性基または3価の窒素含有極性基を示す。)【化2】で表される基を示す。〕【化3】〔一般式(2)において、R6 は水素原子、炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基または炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のヒドロキシアルキル基を示し、R7 は炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基または下記式(iv) 【化4】(但し、各R8 は相互に独立に炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数4〜20の1価の脂環式炭化水素基を示し、かつ少なくとも1つのR8 が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であるか、あるいは何れか2つのR8 が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子とともに炭素数4〜20の2価の脂環式炭化水素基を形成し、残りのR8 が炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。)で表される基を示す。〕

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 33/14 , C08L 45/00 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 33/14 , C08L 45/00 , H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BK001 , 4J002EB006 , 4J002EB126 , 4J002EQ016 , 4J002EU046 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV266 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002EW176 , 4J002EY006 , 4J002FD206 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (17)

化学増幅型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-235247 Applicant：富士通株式会社
感光性高分子化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-208947 Applicant：三星電子株式会社
レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-224538 Applicant：株式会社東芝

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