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J-GLOBAL ID：200903031128885739

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  藤島 浩晃
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998191559
Publication number (International publication number)：1999305444
Application date： Jul. 07, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 樹脂と酸発生剤を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、基板への接着性や耐ドライエッチング性に優れ、また解像度や感度などの性能が良好なものを提供する。【解決手段】 酸発生剤とともに、下式(I)及び(II)、場合によりさらに下式(III) で示される各重合単位を含む樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表し、R3 及びR4 は互いに独立に、水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシル、シアノ又は置換されてもよいアルコキシカルボニルを表すか、又は両者が一緒になってカルボン酸無水物残基を形成する。ここで用いる樹脂は、上記各式に相当するモノマーの共重合により製造できる。この樹脂は、別の重合単位を含むこともできる。

Claim (excerpt)：

下式(I)及び(II)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 は炭素数1〜8のアルキルを表す)で示される各重合単位を含む樹脂、及び酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 505

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 505