露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (4)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005169549
Publication number (International publication number)：2006165500
Application date： Jun. 09, 2005
Publication date： Jun. 22, 2006
Summary：

【課題】液浸領域を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、液体LQを供給するとともに液体LQを回収する液浸機構1を備え、液浸機構1は、基板Pの表面と対向するように形成された斜面2を有し、液浸機構1の液体回収口22が、斜面2に形成されている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、前記液体を供給するとともに前記液体を回収する液浸機構を備え、前記液浸機構は、前記基板の表面と対向するように形成された斜面を有し、前記液浸機構の液体回収口が、前記斜面に形成されている露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3)：

H01L21/30 515G , G03F7/20 521 , H01L21/30 515D

F-Term (4)：

5F046BA03 , 5F046CC08 , 5F046CD10 , 5F046DA27

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

国際公開第99/49504号パンフレット
反転されたウェハ投影光学系インタフェースを使用する浸漬フォトリソグラフィシステム及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-188523 Applicant：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ
浸漬フォトリソグラフィシステム及びマイクロチャネルノズルを使用する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-181684 Applicant：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ

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Cited by examiner (5)

反転されたウェハ投影光学系インタフェースを使用する浸漬フォトリソグラフィシステム及び方法
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浸漬フォトリソグラフィシステム及びマイクロチャネルノズルを使用する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-181684 Applicant：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-172029 Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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