リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：浅村皓 , 浅村肇 , 岩本行夫 , 吉田裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004172029
Publication number (International publication number)：2005005713
Application date： Jun. 10, 2004
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：

【課題】投影システムの最終要素と基板の間の空間を充填する液体を有する装置の描画性能を向上させること。【解決手段】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法が、投影レンズの最終要素と基板の間の描画領域の少なくとも一部を充填する、液溜め13の中に閉じ込められた大きな屈折率の液体を利用する。溶解した大気ガスに由来するか又は液体に曝された装置要素からのガス放出に由来する、液体中で発生する気泡が、露光に干渉して基板上の焼き付け欠陥を招かないように検出されかつ除去される。検出は液体中の超音波減衰の周波数依存を測定することによって実行可能であり、気泡除去は、液体の脱気及び加圧を行い、液体を大気から隔離し、低表面張力の液体を使用し、描画領域を通過する連続的な液流を供給し、さらに超音波定常波形の節を移相することによって実施可能である。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

放射ビームを供給するように配置されている照射システムと、前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能であり、よってパターン形成した放射ビームを提供するパターン形成手段を支持するように構成されている支持構造と、基板を保持するように構成されている基板テーブルと、前記パターン形成した放射ビームを前記基板の標的部分上に投影するように配置されている投影システムと、前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間の少なくとも一部に液体を充填するように構成されている液体供給システムと、を備えるリソグラフィ投影装置であって、前記液体供給システムは気泡低減手段を備え、さらに前記気泡低減手段は気泡検出手段を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 521 , H01L21/30 514E

F-Term (3)：

5F046AA28 , 5F046BA05 , 5F046CB24

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

液浸式投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-296518 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-190873
液体ポンプの気泡検出方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-033112 Applicant：西川雅弘

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Cited by examiner (10)

液浸式投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-296518 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-190873
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