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J-GLOBAL ID：200903044059489944

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

Inventor：
岩井 武

About 岩井 武

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久保田 尚孝

About 久保田 尚孝

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藤村 悟史

About 藤村 悟史

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羽田 英夫

About 羽田 英夫


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 棚井 澄雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001369339
Publication number (International publication number)：2003167346
Application date： Dec. 03, 2001
Publication date： Jun. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】 200nm以下の波長の光源を用いたときに、優れた感度及び解像度を示し、かつエッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが小さく、及び走査型電子顕微鏡による観察時のライン・スリミングの小さい微細なレジストパターンを与えうる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 アクリル酸エステルから誘導される単位のみを主鎖に有し、酸の作用によりアルカリへの溶解性が増大する樹脂成分(A)と、酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が2-メチル-2-アダマンチル基よりも容易に離脱する多環式の酸解離性溶解抑制基を側鎖に含む構成単位(a1)、ラクトン含有多環式基を側鎖に含む構成単位(a2)及び水酸基含有多環式基を側鎖に含む構成単位(a3)を含む共重合体であるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法。
Claim (excerpt)：
アクリル酸エステルから誘導される単位のみを主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が酸解離性溶解抑制基として2-メチル-2-アダマンチル基よりも容易に脱離する多環式の溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン含有多環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)、及び水酸基含有多環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)を含む共重合体であるポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (26)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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