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J-GLOBAL ID：200903005680125535

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999285762
Publication number (International publication number)：2001109154
Application date： Oct. 06, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(B)下記一般式(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I-1)〜(I-4)中;R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (18)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-188853   Applicant：日本電気株式会社
• 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-255167   Applicant：信越化学工業株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-223110   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-223144   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-146774   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-146775   Applicant：富士写真フイルム株式会社