MRI装置およびMR撮像方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：波多野久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999054614
Publication number (International publication number)：1999313810
Application date： Mar. 02, 1999
Publication date： Nov. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】MT効果により血流/実質部間のコントラストを従来法よりも大幅に向上させ、描出能の高い血流像や実質部の画像を提供する。【解決手段】MRI装置は、撮像領域を規定する周波数とは異なる周波数のMTパルスを印加する手段と、傾斜磁場スポイラーパルスを印加する手段と、データ収集シーケンスに基づいたスキャンを実行する手段を備える。印加されるMTパルスは、複数個の分割したMTパルスから成る。この複数個の分割したMTパルスのそれぞれは、このMTパルスの周波数によって決まるスライス領域のスピンを励起するRFパルスである。このRFパルスと並行して印加され且つスライス領域を選択するための傾斜磁場パルスを印加する手段を備える。RFパルスそれぞれの印加時間は短く、且つ、このRFパルスそれぞれによって励起されるスピンのフリップ角は小さい値に設定される。

Claim (excerpt)：

被検体の撮像領域のMR像を得るMRI装置において、前記撮像領域を規定する周波数とは異なる周波数のMTパルスを印加するMTパルス印加手段と、前記MTパルスを印加した後に傾斜磁場スポイラーパルスを印加するスポイラ印加手段とを備えたことを特徴とするMRI装置。

IPC (2)：

A61B 5/055 , G01R 33/48

FI (3)：

A61B 5/05 351 , A61B 5/05 382 , G01N 24/08 520 Y

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

磁気共鳴方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-114880 Applicant：フィリップスエレクトロニクスエヌベー
磁気共鳴断層撮影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-212817 Applicant：株式会社島津製作所
MRイメージング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-261078 Applicant：株式会社島津製作所

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

"Pulsed Magnetization Transfer Contrast for MR Imaging with Application to Breast"
"Dispersion in magnetization transfer contrast at a given specific absorption rate due to variations

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