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J-GLOBAL ID:200903044479074090
表面検査方法及び検査装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999152214
Publication number (International publication number):2000338048
Application date: May. 31, 1999
Publication date: Dec. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 微小な異常箇所を検出することができる表面検査方法及び検査装置を提供する。【解決手段】 パルスレーザ2からのパルス光を照射光として検査対象である半導体ウエハ1の表面上の検査位置Pに照射し、検査位置Pがゴミまたはキズによる異常箇所であった場合に散乱によって生じる散乱光を検出ゲート機能を有する光検出器3によって検出する。このパルスレーザ2による照射光の出射タイミングと、検出ゲートを用いた光検出器3での検出タイミングとをタイミング同期部4によって制御して、散乱光の光検出器3への到達タイミングに合わせて検出ゲートをONとすることによって、ノイズ光の検出による背景光の影響を低減して、シグナル光である散乱光検出のS/N比を大幅に向上させることができる。
Claim (excerpt):
検査対象の表面上の異常箇所を検出するための表面検査方法であって、パルス光を前記表面上の所定の検査位置に照射光として照射する光照射ステップと、前記照射光が前記表面上の前記異常箇所によって散乱されて生じる散乱光を所定の検出手段によって検出する光検出ステップと、を有し、前記光検出ステップは、前記検出手段に対して前記照射光の照射タイミングに同期された検出ゲートを用いて、通常状態においては前記検出ゲートをOFFとして前記散乱光検出の背景光となるノイズ光の検出を抑制するとともに、前記散乱光の前記検出手段への到達タイミングに合わせた所定のタイミング及び時間幅によって前記検出ゲートをONとして前記散乱光の検出を行うことを特徴とする表面検査方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N 21/88 645 A
, G01B 11/30 A
F-Term (38):
2F065AA49
, 2F065BB01
, 2F065CC19
, 2F065DD04
, 2F065DD06
, 2F065DD12
, 2F065FF44
, 2F065FF67
, 2F065GG04
, 2F065GG08
, 2F065HH12
, 2F065HH16
, 2F065JJ01
, 2F065JJ09
, 2F065JJ15
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL12
, 2F065LL19
, 2F065MM02
, 2F065MM28
, 2F065NN02
, 2F065PP12
, 2F065QQ28
, 2F065QQ47
, 2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB07
, 2G051BA10
, 2G051BB01
, 2G051BC01
, 2G051CA02
, 2G051CA06
, 2G051CA20
, 2G051CB05
, 2G051CD06
, 2G051DA08
, 2G051EA25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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特開昭63-124942
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レンジゲートカメラ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-263736
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
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表面検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-067946
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開昭53-114480
-
特開昭58-021550
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検査装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-209096
Applicant:キヤノン株式会社
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微細粒子測定方法及び微細粒子測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-146600
Applicant:三菱電機株式会社
-
線状体内異常点測定方法及び装置、ならびに、線状体製造方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-144219
Applicant:住友電気工業株式会社
-
暗視野落射蛍光顕微鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-193130
Applicant:株式会社分子バイオホトニクス研究所
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光計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-278797
Applicant:株式会社日立製作所
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分光光度計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-194756
Applicant:株式会社ニコン
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粒子分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-089227
Applicant:東亜医用電子株式会社
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走査型蛍光検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-020124
Applicant:株式会社分子バイオホトニクス研究所
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特開昭58-045522
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特開平2-304316
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