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J-GLOBAL ID:200903044479074090

表面検査方法及び検査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999152214
Publication number (International publication number):2000338048
Application date: May. 31, 1999
Publication date: Dec. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 微小な異常箇所を検出することができる表面検査方法及び検査装置を提供する。【解決手段】 パルスレーザ2からのパルス光を照射光として検査対象である半導体ウエハ1の表面上の検査位置Pに照射し、検査位置Pがゴミまたはキズによる異常箇所であった場合に散乱によって生じる散乱光を検出ゲート機能を有する光検出器3によって検出する。このパルスレーザ2による照射光の出射タイミングと、検出ゲートを用いた光検出器3での検出タイミングとをタイミング同期部4によって制御して、散乱光の光検出器3への到達タイミングに合わせて検出ゲートをONとすることによって、ノイズ光の検出による背景光の影響を低減して、シグナル光である散乱光検出のS/N比を大幅に向上させることができる。
Claim (excerpt):
検査対象の表面上の異常箇所を検出するための表面検査方法であって、パルス光を前記表面上の所定の検査位置に照射光として照射する光照射ステップと、前記照射光が前記表面上の前記異常箇所によって散乱されて生じる散乱光を所定の検出手段によって検出する光検出ステップと、を有し、前記光検出ステップは、前記検出手段に対して前記照射光の照射タイミングに同期された検出ゲートを用いて、通常状態においては前記検出ゲートをOFFとして前記散乱光検出の背景光となるノイズ光の検出を抑制するとともに、前記散乱光の前記検出手段への到達タイミングに合わせた所定のタイミング及び時間幅によって前記検出ゲートをONとして前記散乱光の検出を行うことを特徴とする表面検査方法。
IPC (2):
G01N 21/88 ,  G01B 11/30
FI (2):
G01N 21/88 645 A ,  G01B 11/30 A
F-Term (38):
2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065DD12 ,  2F065FF44 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065GG08 ,  2F065HH12 ,  2F065HH16 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ15 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL12 ,  2F065LL19 ,  2F065MM02 ,  2F065MM28 ,  2F065NN02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ47 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BC01 ,  2G051CA02 ,  2G051CA06 ,  2G051CA20 ,  2G051CB05 ,  2G051CD06 ,  2G051DA08 ,  2G051EA25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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