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J-GLOBAL ID：200903046097721063

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

Inventor：
西村 秀樹

About 西村 秀樹

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蓑輪 貴樹

About 蓑輪 貴樹

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高本 英司

About 高本 英司

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佐野 公康

About 佐野 公康

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西川 通則

About 西川 通則


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003282830
Publication number (International publication number)：2005049691
Application date： Jul. 30, 2003
Publication date： Feb. 24, 2005
Summary：
【課題】 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。【解決手段】 [A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)下記式【化1】で表される脂環式エポキシ骨格を有する不飽和化合物、および(a3)(a1)および(a2)以外の不飽和化合物の共重合体、並びに [B]1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、を含有する感放射線性樹脂組成物。それから製造された層間絶縁膜およびマイクロレンズ。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)下記式
IPC (6)：
G03F7/033 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027
FI (6)：
G03F7/033 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 A ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (27)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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