Pat
J-GLOBAL ID:200903034827667754
感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001091877
Publication number (International publication number):2002287351
Application date: Mar. 28, 2001
Publication date: Oct. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高い感放射線感度と十分な現像マージンを有し、しかも、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜やマイクロレンズの形成に適する感放射線性樹脂組成物、その組成物の層間絶縁膜およびマイクロレンズ形成への使用、およびその組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、(a3)水酸基含有不飽和化合物、及び(a4)その他のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、並びに [B]1,2-キノンジアジド化合物を含有する。層間絶縁膜およびマイクロレンズは上記組成物の使用により形成される。
Claim (excerpt):
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、(a3)水酸基含有不飽和化合物、及び(a4)その他のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、並びに[B]1,2-キノンジアジド化合物が含有されていることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (8):
G03F 7/032 501
, C08J 5/00 CER
, C08J 5/18 CER
, C08K 5/28
, C08L 33/00
, C08L 35/00
, G02B 1/04
, G03F 7/022
FI (8):
G03F 7/032 501
, C08J 5/00 CER
, C08J 5/18 CER
, C08K 5/28
, C08L 33/00
, C08L 35/00
, G02B 1/04
, G03F 7/022
F-Term (33):
2H025AA04
, 2H025AA14
, 2H025AA20
, 2H025AB14
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 4F071AA14X
, 4F071AA22X
, 4F071AA32X
, 4F071AA33X
, 4F071AF30
, 4F071AF31
, 4F071AF39
, 4F071AH16
, 4F071BA02
, 4F071BB02
, 4F071BB12
, 4F071BC01
, 4F071BC03
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002BH021
, 4J002CD191
, 4J002EQ036
, 4J002FD146
, 4J002GP01
, 4J002HA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-211735
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-027211
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-327699
Applicant:東京応化工業株式会社
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