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J-GLOBAL ID：200903046138827963
光吸収剤及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996293343
Publication number (International publication number)：1998121029
Application date： Oct. 15, 1996
Publication date： May. 12, 1998
Summary：
【要約】【課題】 遠紫外線、電子線、X線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像することによりパターン形成できる、微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適な三環式芳香族骨格を有するカルボン酸誘導体を含有する光吸収剤及びこれを配合した化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 下記一般式(1)又は(2)で示される三環式芳香族骨格を有するカルボン酸誘導体からなる光吸収剤及びこれを配合した化学増幅ポジ型レジスト材料。【化1】(R1、R2、R3はH、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルケニル基又はアリール基、R4はそれぞれOを含んでいてもよい2価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又は酸素原子、R5は酸不安定基、pは0又は1、k、h、mは0〜9、nは1〜10、k+h+m+n≦10を満足する。)
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)又は(2)で示される三環式芳香族骨格を有するカルボン酸誘導体からなることを特徴とする光吸収剤。【化1】(式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、直鎖状もしくは分岐状のアルコキシアルキル基、直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基又はアリール基である。R4は酸素原子を含んでいてもよい置換もしくは非置換の脂肪族炭化水素基、酸素原子を含んでいてもよい置換もしくは非置換の脂環式炭化水素基、酸素原子を含んでいてもよい置換もしくは非置換の芳香族炭化水素基又は酸素原子である。R5は酸不安定基である。pは0又は1である。k、h、mはそれぞれ0〜9の整数、nは1〜10の整数で、k+h+m+n≦10を満足する。)
IPC (6)：
C09K 3/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 506
, G03F 7/039 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C09K 3/00 U
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 506
, G03F 7/039 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Cited by examiner (5)
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