常圧プラズマ処理方法および装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002264392
Publication number (International publication number)：2003203800
Application date： Sep. 10, 2002
Publication date： Jul. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】大気圧近傍の圧力下で、連続波によって安定したグロー放電プラズマ処理を行うことのできる常圧プラズマ処理方法および装置を提供すること。【解決手段】常圧プラズマ処理方法として、大気圧近傍の圧力下で、一対の対向電極2,3の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、該対向電極間に雰囲気ガスを供給して電界を印加することによりグロー放電プラズマ処理を行う方法であって、イミタンス変換を行う共振回路23,24,25,2,3,26から、共振周波数が10kHz〜100MHz、電極間電界強度が10kV/cm〜100kV/cmからなる連続波を対向電極2,3間に印加するようにしたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

大気圧近傍の圧力下で、一対の対向電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、該対向電極間にガスを供給して電界を印加することによりグロー放電プラズマ処理を行う方法であって、共振回路から、共振周波数が10kHz〜100MHz、電極間電界強度が10kV/cm〜100kV/cmからなる連続波を前記対向電極間に印加するようにしたことを特徴とする常圧プラズマ処理方法。

IPC (7)：

H05H 1/46 , B01J 19/08 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H05H 1/24

FI (8)：

H05H 1/46 R , B01J 19/08 E , B01J 19/08 H , C23C 16/505 , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H05H 1/24 , H01L 21/302 101 E

F-Term (49)：

4G075AA24 , 4G075AA29 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BB10 , 4G075BC06 , 4G075CA16 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB42 , 4G075EC21 , 4G075EC25 , 4G075FC15 , 4K030AA16 , 4K030FA01 , 4K030JA09 , 4K030JA14 , 4K030JA18 , 4K030KA14 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 4K030LA11 , 5F004BA04 , 5F004BA06 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BB24 , 5F004BB28 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004DA21 , 5F004DA26 , 5F004DB26 , 5F004DB27 , 5F045AA08 , 5F045AB02 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AC11 , 5F045AC12 , 5F045AC16 , 5F045AE29 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EH12 , 5F045EH13 , 5F045EH19 , 5F045EM10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

グロー放電プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-133716 Applicant：積水化学工業株式会社

Cited by examiner (8)

積層体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-005715 Applicant：積水化学工業株式会社
放電プラズマを利用した基材の表面処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-056064 Applicant：積水化学工業株式会社
特開昭54-107895

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