質量分析用イオン化基板及び質量分析装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006116525
Publication number (International publication number)：2006329977
Application date： Apr. 20, 2006
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】レーザー脱離イオン化質量分析用試料基板において、レーザー光を照射されたときに、妨害ピークを発生させることなく、高感度かつ正確な測定ができ、試料作成にあたっては、試料を均一に塗布することができるソフトLDI-MS測定のための試料基板およびそれを用いる測定装置の提供。【解決手段】レーザー脱離イオン化質量分析に用いるレーザー光を吸収するイオン化媒体として、ドット構造を有する特定のイオン化素子を用いる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザー脱離イオン化質量分析に供するための試料基板において、基板平滑表面上に物質を付着させて複数の凸状ドット構造体が分布する表面を形成し、該基板をレーザー脱離イオン化質量分析に用いるイオン化媒体として用いることを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析用試料基板。

IPC (4)：

G01N 27/62 , G01N 27/64 , H01J 49/04 , H01J 49/10

FI (4)：

G01N27/62 F , G01N27/64 B , H01J49/04 , H01J49/10

F-Term (11)：

2G041CA01 , 2G041DA04 , 2G041FA10 , 2G041FA12 , 2G041GA06 , 2G041GA16 , 2G041JA02 , 2G041JA07 , 2G041KA01 , 5C038EF16 , 5C038GG07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

MALDI-TOFターゲットとして適した導電カード
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-011129 Applicant：ミリポール・コーポレイシヨン
分析対象物の脱着およびイオン化のための方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-237646 Applicant：ベイラーカレッジオブメディシン
TOFMS用サンプルプレート及びその処理方法、並びにTOFMSによる分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-146341 Applicant：株式会社島津製作所

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Cited by examiner (1)

MALDI質量分析に向けたターゲットプレート上で反応を行うための方法および装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-545353 Applicant：ユニバーシティオブペンシルベニア

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