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J-GLOBAL ID:200903047497635421
耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法及びそれに用いられるポジ型レジスト組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998320439
Publication number (International publication number):1999352702
Application date: Nov. 11, 1998
Publication date: Dec. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂及びキノンジアジド系感放射線成分を含有するポジ型レジスト組成物から形成されるポジ型レジストパターンの耐熱性を向上させる。【解決手段】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド系感放射線剤及び、パターニング露光の波長に感度を有しないが、その後の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を含有するポジ型レジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成し、そこにパターニング露光し、アルカリ現像液で現像した後、活性剤から酸又はラジカルを発生させて硬化させることにより、耐熱性に優れたレジストパターンを形成する。ここで用いるレジスト組成物は、さらに架橋剤を含有するのが有利である。上記のノボラック樹脂、感放射線剤、活性剤、及び架橋剤を含有するポジ型レジスト組成物も提供される。
Claim (excerpt):
アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド系感放射線剤及び、パターニング露光の波長に感度を有しないが、その後の処理により酸又はラジカルを発生する活性剤を含有するポジ型レジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成し、そこにパターニング露光し、アルカリ現像液で現像した後、活性剤から酸又はラジカルを発生させて硬化させることを特徴とする耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法。
IPC (4):
G03F 7/40 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/022
, H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/40 501
, G03F 7/004 503 Z
, G03F 7/022
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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感光性樹脂
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-285774
Applicant:日本電気株式会社
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特開平3-253858
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パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-167810
Applicant:株式会社東芝
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フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-278477
Applicant:住友化学工業株式会社
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ブラックマトリックス用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-018611
Applicant:住友化学工業株式会社
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パターンの保持方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-196871
Applicant:住友化学工業株式会社
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