汚水処理方法および処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：森本義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997145663
Publication number (International publication number)：1998337579
Application date： Jun. 04, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】ダイオキシン類等の微量有害物質を効率よく分解除去できる汚水処理方法および処理装置を提供する。【解決手段】ダイオキシン類等の微量有害物質を含んだ砂濾過処理水W1を、酸化反応を促進する光触媒13を保持した反応塔11へ通水し、光触媒13と紫外線ランプ12からの紫外線とにより前記微量有害物質を分解除去する。

Claim (excerpt)：

ダイオキシン類等の微量有害物質を含んだ汚水を処理する汚水処理方法であって、前記汚水を、酸化反応を促進する光触媒を保持した紫外線反応塔へ通水し、光触媒と紫外線とにより汚水中の微量有害物質を分解除去することを特徴とする汚水処理方法。

IPC (5)：

C02F 1/72 101 , B01J 35/02 , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/58 , C02F 1/78

FI (5)：

C02F 1/72 101 , B01J 35/02 J , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/58 A , C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光触媒を用いる廃水処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-141357 Applicant：工業技術院長
オゾンと光触媒による排水の処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-237428 Applicant：工業技術院長
汚水中のダイオキシン類除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-253536 Applicant：株式会社クボタ

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