Pat
J-GLOBAL ID：200903047846027744

オゾン水製造装置

Inventor：
長廣 泰藏

About 長廣 泰藏


Applicant, Patent owner：
株式会社オクミネ

About 株式会社オクミネ

, 
長廣 泰藏

About 長廣 泰藏


Agent (1)： 小笠原 健治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002292046
Publication number (International publication number)：2004122043
Application date： Oct. 04, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：
【課題】一定量の吸引用原水が用いられるエジェクタを使用した場合でも、多量のオゾンガスを吸引して、このオゾンガスと原水と充分に接触させることができるオゾン水製造装置を提供する。【解決手段】エジェクタ20が、原水Wとして水道水がほぼ水道圧で供給され、原水Wを高速で噴射する第1絞り流路20bと、第1絞り流路20bからの噴射水F周りを囲むように、第1絞り流路に隣接して設けられるオゾンガス供給室20cと、第1絞り流路20bより大径で、かつ、オゾンガス供給室20cに対して第1絞り流路20bの反対側に、第1絞り流路20bと同心状になるように設けられ、オゾンガス供給室20c中のオゾンガスGを噴射水F中に混入させる第2絞り流路20dと、第2絞り流路20dに隣接して設けられ、この第2絞り流路20dより流路径が漸次拡大するディフューザ部20eとを有する。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
エジェクタの使用により、原水にオゾンガスを溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造装置において、 前記エジェクタを、前記原水として水道水がほぼ水道圧で供給され、この原水を高速で噴射する第1絞り流路と、前記第1絞り流路から噴射される噴射水周りを囲むように、この第1絞り流路に隣接して設けられるオゾンガス供給室と、前記第1の絞り流路径より大径で、かつ、前記オゾンガス供給室に対して前記第1絞り流路の反対側に、この第1絞り流路と同芯状になるように設けられ、前記オゾンガス供給室中のオゾンガスを前記噴射水中に混入させる第2絞り流路と、前記第2絞り流路に隣接して設けられ、この第2絞り流路より流路径が漸次拡大するディフューザ部とを有するように形成していることを特徴とするオゾン水製造装置。
IPC (4)：
B01F1/00 ,  B01F3/04 ,  B01F5/00 ,  C02F1/78
FI (5)：
B01F1/00 A ,  B01F3/04 F ,  B01F3/04 Z ,  B01F5/00 F ,  C02F1/78
F-Term (10)：
4D050AA04 ,  4D050BB02 ,  4D050BD04 ,  4G035AA01 ,  4G035AB20 ,  4G035AB27 ,  4G035AC09 ,  4G035AC23 ,  4G035AE13 ,  4G035AE17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM