露光装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊藤進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999346753
Publication number (International publication number)：2001168003
Application date： Dec. 06, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】解像度を劣化させずに広い表示領域を確保した画像表示手段を用い解像度の高い回路パターン像を基板上に形成させながら安価でかつ確実な露光動作を確保した露光装置を提供する。【解決手段】一回路パターンを基板6上のレジスト面に投影して露光する露光装置1において、一回路パターンを複数の領域に分割する際に隣接する領域間で一部の領域が互いに重複するように分割する処理手段8と、複数の分割領域の一分割領域を基板上のレジスト面に投影する複数の光学系3aを備えた露光手段2と、隣接する領域の互いの重複領域を基板上のレジスト面上で重ね合わせるように、露光手段により一度に複数の分割領域をレジスト面に投影させることで一回路パターンの像を基板上のレジスト面に形成させる制御手段8とを具備する。

Claim (excerpt)：

一回路パターンを基板上のレジスト面に投影して露光する露光装置において、一回路パターンを複数の領域に分割する際に隣接する領域間で一部の領域が互いに重複するように分割する処理手段と、複数の分割領域の一分割領域を上記基板上のレジスト面に投影する光学系を複数備えた露光手段と、隣接する領域の互いの重複領域を上記基板上のレジスト面上で重ね合わせながら上記露光手段により一度に複数の分割領域を上記レジスト面に投影させることで、一回路パターンの像を上記基板上のレジスト面に形成させる制御手段と、を具備したことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (5)：

G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 514 C , H01L 21/30 514 A , H01L 21/30 525 F

F-Term (25)：

5F046AA11 , 5F046BA03 , 5F046BA08 , 5F046CA03 , 5F046CB09 , 5F046CB12 , 5F046CB18 , 5F046CB23 , 5F046CB25 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC15 , 5F046EA02 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FA03 , 5F046FA10 , 5F046FA14 , 5F046FB08 , 5F046FB09 , 5F046FB10 , 5F046FB13 , 5F046FB20 , 5F046FC06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭60-134240
投影露光方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-267182 Applicant：株式会社日立製作所
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-073029 Applicant：ローム株式会社

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