ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995146538
Publication number (International publication number)：1996339079
Application date： Jun. 13, 1995
Publication date： Dec. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】高解像力および優れた膜厚依存性を有する超微細加工用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【構成】アルカリ可溶性樹脂、フェノール性水酸基含有低分子化合物及び特定の母核構造を有するポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルフォン酸ジエステルを含有し、254nmを測定波長とする高速液体クロマトグラフィーにおいて測定した該キノンジアジドスルフォン酸ジエステルのパターン面積比が全パターン面積の50%以上且つ全キノンジアジド系感光物の重量のレジスト組成物中の固形分の重量に対する割合が23〜45%である。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、フェノール性水酸基を有する低分子化合物及び下記一般式[I]で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-キノンジアジド-5-(及び/または-4-)スルフォン酸ジエステルを含有し、254nmを測定波長とする高速液体クロマトグラフィーにおいて測定した該キノンジアジドスルフォン酸ジエステルのパターン面積比が全パターン面積の50%以上であり、かつ全キノンジアジド系感光物の重量のレジスト組成物中の固形分の重量に対する割合が23%以上、45%以下であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 ,R2 は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はシクロアルキル基を表し、R3 ,R6 は同一でも異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表わし、R7 ,R8 は同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を表し、R,R’,R''、R''' は同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を表し、a,bは0、1、2、3を表し、Aは【化2】を表わし、R9 〜R14およびR18〜R21は同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基(R9 とR10は環を形成していてもよい)を表し、R15,R17,R23は同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、R16,R22,R24は同一でも異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基、を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-346400 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-295112 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-223634 Applicant：住友化学工業株式会社

Show all

Return to Previous Page