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J-GLOBAL ID:200903048529972278
アライメント装置、収差測定方法、及び収差測定マーク
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999373070
Publication number (International publication number):2001189256
Application date: Dec. 28, 1999
Publication date: Jul. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 アライメント装置毎あるいはアライメントマーク毎に差が生じているアライメントオフセットを低減する。【解決手段】 照明光学系1を介して基板4上に形成されたアライメントマークを照明し、アライメントマークの像を、拡大光学系5を用いてCCDカメラ6の受光面に投影してアライメントマークの位置を測定するアライメント装置において、拡大光学系5にコマ収差の偏心成分を平行移動させる任意に傾きを調整可能な平行平面板7を設ける。
Claim (excerpt):
下地基板上に形成されたアライメントマークを照明する照明光学系と、前記アライメントマークの像を拡大する拡大光学系と、前記拡大光学系を通した光の像を受光する検出器と、前記検出器に入射する光の軸に対する傾きを変えることによりコマ収差の分布を平行移動させる光学系とを具備し、前記光学系には、前記コマ収差の偏心を補正する調整機構が設けられていることを特徴とするアライメント装置。
IPC (2):
FI (2):
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 R
F-Term (10):
5F046AA25
, 5F046CB19
, 5F046DA13
, 5F046DB05
, 5F046EA03
, 5F046EA10
, 5F046EB01
, 5F046FA10
, 5F046FB11
, 5F046FB17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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コマ収差測定装置および該装置を備えた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-114160
Applicant:株式会社ニコン
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高精度微調整機能を備えた光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-217245
Applicant:株式会社ニコン
-
露光装置及びそれを用いた半導体チップの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-179927
Applicant:キヤノン株式会社
-
マーク位置検出装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-273229
Applicant:株式会社ニコン
-
露光装置及びそれを用いた半導体チツプの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-202398
Applicant:キヤノン株式会社
-
パターン測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-305917
Applicant:株式会社東芝
-
投影光学系の収差測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-339703
Applicant:株式会社ニコン
-
位置検出装置および位置検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-333984
Applicant:株式会社ニコン
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