エッチング液管理方法及び装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：長谷川一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997163541
Publication number (International publication number)：1999001781
Application date： Jun. 06, 1997
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】金属薄膜のエッチングを行うに当たり、安定したエッチング効果を得ることにより工程管理の負荷を軽減し、更にエッチング液の使用可能時間を伸ばし、且つ薬液の使用量を減らした経済的なエッチング液管理方法を提供する。【解決手段】酸化剤としてCe<SP>4+</SP>(例えば、硝酸セリウムアンモニウム)を含有するエッチング液を用いてクロム等の金属薄膜基板のエッチングを行うに当たり、該エッチング液中のCe<SP>4+</SP>濃度を検知し、(Ce<SP>4+</SP>濃度)/(Ce<SP>4+</SP>初期濃度)を所定濃度範囲(例えば、0.5<(Ce<SP>4+</SP>濃度)/(初期Ce<SP>4+</SP>濃度)<1.5)に維持するようにCe<SP>4+</SP>を追加供給することよりなるエッチング液管理方法及び該方法を実施するための装置。

Claim (excerpt)：

酸化剤としてCe4+を含有するエッチング液を用いて金属薄膜基板のエッチングを行うに当たり、該エッチング液中のCe4+濃度を検知し、(Ce4+濃度)/(Ce4+初期濃度)を所定濃度範囲に維持するようにCe4+を追加供給することを特徴とするエッチング液管理方法。

IPC (4)：

C23F 1/16 , G02F 1/1343 , H01L 21/306 , H01L 21/02

FI (4)：

C23F 1/16 , G02F 1/1343 , H01L 21/02 Z , H01L 21/306 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

Crエッチング液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-230812 Applicant：株式会社日立製作所
薬液濃度管理方法及び薬液濃度管理装置を備えた化学的処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-070349 Applicant：ソニー株式会社
特開昭51-065044

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