リソグラフィー装置、投影露光装置およびコータデベロッパー

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：永井冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997319780
Publication number (International publication number)：1999154637
Application date： Nov. 20, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】投影露光装置とコータデベロッパーを常時は遮断してウエハ受け渡しの間のみ連通することにより、投影露光装置とコータデベロッパーの間の空気の流通を減少させる。【解決手段】コータデベロッパー100と投影露光装置200とをインライン接続してウエハWの受け渡しを行う。コータデベロッパー100と投影露光装置200とを連通遮断するシャッタ230を投影露光装置200のウエハ受け渡し窓221に設ける。ウエハWの受け渡し時にシャッタ230を開く。

Claim (excerpt)：

コータデベロッパーと投影露光装置とをインライン接続してウエハの受け渡しを行うようにしたリソグラフィー装置において、前記コータデベロッパーと前記投影露光装置とを連通遮断する開閉装置と、ウエハの受渡時に前記開閉装置を開く制御装置とを具備することを特徴とするリソグラフィー装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 514 D , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

露光装置用恒温チヤンバ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-285278 Applicant：富士通株式会社
レジスト・パターン形成方法およびこれに用いるレジスト・パターン形成システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-290495 Applicant：ソニー株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-313141 Applicant：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社

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Cited by examiner (5)

露光装置用恒温チヤンバ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-285278 Applicant：富士通株式会社
レジスト・パターン形成方法およびこれに用いるレジスト・パターン形成システム
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基板処理装置
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