レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993298995
Publication number (International publication number)：1995128859
Application date： Nov. 04, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は0.30μm以下の解像限界に於いてエッチング工程で問題のない良好なパターン形状を提供し、微妙な感度調整が可能な実用的なレジスト組成物を提供することを目的とする。【構成】下記(i)〜(iii)の何れかと、(i)酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる樹脂、(ii)アルカリ可溶性の樹脂と、酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる化合物の組合せ、(iii)アルカリ可溶性の樹脂と、酸の作用により樹脂と架橋して樹脂をアルカリ難溶化させる化合物の組合せ、露光により酸を発生する感光性化合物と、感度調製剤としてのp-ビニルピリジンの重合体又は共重合体と、溶剤とを含んで成ることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記(i)〜(iii)の何れかと、(i)酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる樹脂、(ii)アルカリ可溶性の樹脂と、酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる化合物の組合せ、(iii)アルカリ可溶性の樹脂と、酸の作用により樹脂と架橋して樹脂をアルカリ難溶化させる化合物の組合せ、露光により酸を発生する感光性化合物と、下記一般式〔1〕【化1】[式中、R1は水素原子又は下記一般式〔2〕【化2】(式中、R4は水素原子、炭素数1〜4の直鎖状又は分枝状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状又は分枝状のアルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。)を表し、R2は水素原子又はメチル基を表し、R3は水素原子又は-COOR5(式中、R5は炭素数1〜4の直鎖状又は分枝状のアルキル基、又は2-ヒドロキシエチル基を表す。)を表し、kは1以上の自然数を表し、lは0又は1以上の自然数を表す。]で示される化合物と、溶剤とを含んで成ることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/028 , G03F 7/038 505 , H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開平2-118651
特開平4-075062
レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-285775 Applicant：日本電気株式会社

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Cited by examiner (7)

特開平4-075062
レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-285775 Applicant：日本電気株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-073169 Applicant：日本合成ゴム株式会社

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