水処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山崎宏 , 前田厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005273562
Publication number (International publication number)：2007083143
Application date： Sep. 21, 2005
Publication date： Apr. 05, 2007
Summary：

【課題】マイクロナノバブルの発生状態の最適化を図る。【解決手段】超純水製造装置5,希薄排水回収装置34,雑用水回収装置および排水処理装置の各前段に、第1処理槽1〜第4処理槽を設置している。そして、各処理槽1,2,...を、マイクロナノバブル発生槽6,23,...と嫌気測定槽7,24,...とで構成している。したがって、各マイクロナノバブル発生槽6,23,...で発生されたマイクロナノバブルによって、各嫌気測定槽7,24,...内の微生物が活性化されて低濃度有機物の処理効率が向上される。さらに、上記各嫌気測定槽7,24,...における各溶存酸素計13,30,...または各酸化還元電位計14,31,...の測定値が夫々に定められた一定の範囲を越えると循環ポンプ9,26,...の回転数が制御されて、マイクロナノバブルの発生が減少される。こうして、処理水中におけるマイクロナノバブルの含有量が適正に保たれる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

外部から水が導入されると共に、マイクロバブルとナノバブルとの両方を含むマイクロナノバブルを発生するマイクロナノバブル発生器を有して、上記導入された水中に上記マイクロナノバブルを含有させるマイクロナノバブル発生槽と、上記マイクロナノバブル発生槽から導入された水を嫌気性処理すると共に、被処理水中における上記マイクロナノバブルの含有量を測定するための嫌気測定槽とを備えたことを特徴とする水処理装置。

IPC (5)：

C02F 1/34 , C02F 1/28 , C02F 3/10 , C02F 3/28 , B01F 3/04

FI (5)：

C02F1/34 , C02F1/28 D , C02F3/10 Z , C02F3/28 B , B01F3/04 F

F-Term (40)：

4D003AB12 , 4D003BA02 , 4D003CA02 , 4D003CA03 , 4D003CA10 , 4D003DA29 , 4D003EA01 , 4D003EA20 , 4D003FA05 , 4D003FA10 , 4D024AA03 , 4D024AA04 , 4D024BA02 , 4D024DB03 , 4D024DB05 , 4D024DB16 , 4D024DB21 , 4D037AA03 , 4D037AA11 , 4D037AB02 , 4D037BA26 , 4D037CA01 , 4D037CA02 , 4D037CA03 , 4D037CA07 , 4D037CA08 , 4D040AA04 , 4D040AA24 , 4D040AA25 , 4D040AA34 , 4D040AA61 , 4D624AA03 , 4D624AA04 , 4D624BA02 , 4D624DB03 , 4D624DB05 , 4D624DB16 , 4D624DB21 , 4G035AB20 , 4G035AE19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
ナノ気泡の生成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-145325 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
廃液の処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-121082 Applicant：日立エンジニアリング株式会社

Cited by examiner (7)

排水処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-076499 Applicant：三菱重工業株式会社, 電源開発株式会社
ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
微細気泡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-347352 Applicant：大成博文

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