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J-GLOBAL ID：200903049709853621

ポジ型感光性組成物

Inventor： 青合 利明 ,  藤森 亨 ,  山中 司 ,  上西 一也
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995261635
Publication number (International publication number)：1997106073
Application date： Oct. 09, 1995
Publication date： Apr. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 露光後から加熱処理までの経時による酸の拡散又は失活の防止が容易且つ適切にでき、且つ溶解阻止効果や現像性が改善され、良好なプロファイルと高解像力を有するポジ型感光性組成物を提供できる。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する構造単位及び塩基性窒素を有する構造単位から少なくともなる樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(1)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(2)酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する構造単位及び塩基性窒素を有する構造単位から少なくともなる樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-134431   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-316683   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• レジスト塗布組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-059928   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-298995   Applicant：和光純薬工業株式会社