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J-GLOBAL ID：200903050411452258

微細構造転写装置、スタンパおよび微細構造の製造方法

Inventor：
安藤 拓司

About 安藤 拓司

, 
荻野 雅彦

About 荻野 雅彦

, 
片保 秀明

About 片保 秀明


Applicant, Patent owner：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

About 株式会社日立ハイテクノロジーズ


Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007061366
Publication number (International publication number)：2008221552
Application date： Mar. 12, 2007
Publication date： Sep. 25, 2008
Summary：
【課題】被転写体全面に一回の加圧で微細構造を転写でき、かつスタンパや被転写体の端部に局所的な負荷をかけることなく、同一スタンパで繰り返し転写を可能とする微細構造転写装置を提供する。【解決手段】本発明は、微細パターン2aが形成されたスタンパ2と被転写体1とを接触させて、被転写体1の表面にスタンパ2の微細パターン2aを転写した後、スタンパ2を被転写体1から剥離する微細構造転写装置において、スタンパ2は微細パターン2aの形成面の外周部に凹部2bが形成され、スタンパ2の外径Φ3は被転写体1の外径Φ2よりも大きく、かつ微細パターン2aの形成面の外径Φ1は被転写体1の外径Φ2よりも小さいことを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
微細パターンが形成されたスタンパと被転写体とを接触させて、前記被転写体の表面に前記スタンパの微細パターンを転写した後、前記スタンパを前記被転写体から剥離する微細構造転写装置において、 前記スタンパは微細パターン形成面の外周部の少なくとも一部に凹部が形成され、 前記スタンパの外径は前記被転写体の外径よりも大きく、かつ前記微細パターン形成面の外径は前記被転写体の外径よりも小さいことを特徴とする微細構造転写装置。
IPC (3)：
B29C 59/02 ,  G11B 5/84 ,  H01L 21/027
FI (3)：
B29C59/02 B ,  G11B5/84 Z ,  H01L21/30 502D
F-Term (22)：
4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AR12 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ14 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112AA19 ,  5D112AA24 ,  5D112BA10 ,  5D112GA00 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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