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J-GLOBAL ID:200903051661635370

光造形装置及び光造形方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 橋爪 健
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000065006
Publication number (International publication number):2001252986
Application date: Mar. 09, 2000
Publication date: Sep. 18, 2001
Summary:
【要約】【課題】 液晶マスクと可視光を用いて、面露光による非積層での造形を、高い造形自由度、高精度、高速で実現する。【解決手段】 光源1に、Ar+レーザーを用い、コリメータ部2により、ビーム径を拡大して入射光とする。1/4波長板3、1/2波長板4を経て、一様な強度分布をもつ入射光は、液晶マスク部5を透過した後、レンズ6を経て空間周波数フィルター7により一次回折光等のノイズを取り除かれる。レンズ6等による縮小光学系のはたらきによりベースプレート81上で液晶画像は、縮小されて結像する。ベースプレート81には造形対象物10として可視光硬化性樹脂が配置され、非積層で材料を硬化させる。
Claim (excerpt):
造形対象物を造形するための可視光を出力する光源と、2次元情報及び階調情報により透過光又は反射光が制御される液晶マスク部と、液晶マスク部に、2次元情報及び階調情報を与え、造形対象物の3次元形状を設定する制御部と、を備え、前記光源からの可視光が、前記制御部により制御された前記液晶マスク部を透過又は反射し、造形対象物に照射されることにより、3次元形状を形成するようにした光造形装置。
IPC (5):
B29C 67/00 ,  G02F 1/13 505 ,  G03F 7/24 ,  B29K101:10 ,  B29L 31:00
FI (5):
B29C 67/00 ,  G02F 1/13 505 ,  G03F 7/24 Z ,  B29K101:10 ,  B29L 31:00
F-Term (30):
2H088EA39 ,  2H088HA15 ,  2H088HA18 ,  2H088HA21 ,  2H088HA24 ,  2H088HA29 ,  2H097AA16 ,  2H097BB01 ,  2H097CA07 ,  2H097EA01 ,  2H097FA02 ,  2H097LA15 ,  4F213AA36 ,  4F213AA42E ,  4F213AA43E ,  4F213AH12 ,  4F213AP06 ,  4F213AR07 ,  4F213WA25 ,  4F213WA40 ,  4F213WB01 ,  4F213WL14 ,  4F213WL35 ,  4F213WL44 ,  4F213WL64 ,  4F213WL79 ,  4F213WL83 ,  4F213WL93 ,  4F213WL95 ,  4F213WW34
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
  • 光造形装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-058501   Applicant:株式会社日立製作所
  • 三次元光造形方法及びその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-026640   Applicant:株式会社東芝
  • 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-333105   Applicant:キヤノン株式会社
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Cited by examiner (7)
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