電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000402591
Publication number (International publication number)：2002202608
Application date： Dec. 28, 2000
Publication date： Jul. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】高感度かつ高解像度で、PEDの安定性に優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により脱離する基の中に、p-エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(c)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、(b1)酸の作用により脱離する基の中に、p-エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(c)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/42 , C08L 25/18 , C08L101/02 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/42 , C08L 25/18 , C08L101/02 , H01L 21/30 502 R

F-Term (24)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB51 , 2H025CC03 , 2H025FA12 , 4J002BC121 , 4J002BE041 , 4J002BF001 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG131 , 4J002EV236 , 4J002FD206 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-136075 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-115253 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-275334 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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