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J-GLOBAL ID：200903052466386419

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
平山 拓

About 平山 拓

, 
高山 寿一

About 高山 寿一


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 棚井 澄雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002127280
Publication number (International publication number)：2003322970
Application date： Apr. 26, 2002
Publication date： Nov. 14, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ラインエッジラフネスの低減、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)(b-1)アルカリ可溶性基を有する単位40〜80モル%、(b-2)少なくとも一つの酸解離性又は酸非解離性のアルカリ不溶性基を有する単位1〜50モル%、(b-3)アルカリ不溶性単位0〜40モル%及び(b-4)酸解離性基を有する単位であって、(b-2)とは異なる単位0〜40モル%を含む共重合体からなる樹脂を含有してなるポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)(b-1)アルカリ可溶性基を有する単位40〜80モル%、(b-2)次の一般式(I)で表される、少なくとも一つの酸解離性基又は酸非解離性のアルカリ不溶性基を有する単位1〜50モル%、【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ独立して、水素原子、酸非解離性の低級アルキル基又はアリール基であり、R3は水素原子、酸非解離性のアルキル基又はアリール基であり、R4は水素原子又は-COO-R5であり、R5は酸解離性若しくは酸非解離性の鎖状、分岐状あるいは環状のアルキル基又は酸非解離性のアリール基である。ただし、R3とR4が共に水素原子であることはない。)(b-3)アルカリ不溶性単位0〜40モル%及び(b-4)酸解離性基を有する単位であって、(b-2)とは異なる単位0〜40モル単位を含む共重合体からなる樹脂を含有してなるポジ型レジスト組成物。(ただし、(b-2)単位が、(i)酸解離性基を有する場合、(b-3)単位は1モル%以上であり、(ii)酸解離性基を有さず、かつ酸非解離性でアルカリ不溶性基を有する場合は、上記(b-4)単位は1モル%以上である。)
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (15)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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