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J-GLOBAL ID：200903053142187274

ポジ型レジスト用剥離液

Inventor： 脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  原田 庸一郎 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994083582
Publication number (International publication number)：1995271057
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【構成】N,Nージエチルヒドロキシルアミンを含有してなるポジ型レジスト用剥離液、および該N,Nージエチルヒドロキシルアミンと、アミノアルコール化合物、並びに水溶性有機溶剤、水又は配合剤の少なくとも1種との混合物、或はN,Nージエチルヒドロキシルアミンとアミノアルコール化合物及び水溶性有機溶剤、水又は配合剤の少なくとも1種と、カルボキシル基含有有機化合物との混合物からなるポジ型レジスト用剥離液【効果】剥離性に優れる。特に、過酷な物理的、化学的環境に曝され、変質したレジストを容易に剥離できる。

Claim (excerpt)：

N,Nージエチルヒドロキシルアミンを含有してなるポジ型レジスト用剥離液。

IPC (2)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 還元及び酸化電位を有する求核アミン化合物を含む洗浄剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-193940   Applicant：イー.ケー.シー.テクノロジー.インコーポレイテッド
• レジストの剥離方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-228724   Applicant：旭電化工業株式会社
• レジスト剥離剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-267432   Applicant：旭電化工業株式会社
• 有機ストリツピング組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-010812   Applicant：アクト,インク.
• 剥離剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-109323   Applicant：ナガセ電子化学株式会社
• ポジ型フォトレジスト用剥離液および半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-105186   Applicant：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 関東化学株式会社