Pat
J-GLOBAL ID：200903053874277462

プラズマ処理装置

Inventor：
鈴木 正康

About 鈴木 正康


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003125052
Publication number (International publication number)：2004289099
Application date： Apr. 30, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：
【課題】大面積のプラズマを容易に生成するプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】誘電体窓2は、(1)マイクロ波の取り出し、(2)表面波の伝播、および(3)気密の保持の3つの働きをする。誘電体窓2とチャンバー10との間の気密を保持するOリング14は、マイクロ波導波管1の底板1aの周囲を取り囲むように配置される。誘電体板3,4は、誘電体窓2に並設され、表面波の伝播のみを行う。誘電体板3,4は、形状、厚さおよび誘電率のうち少なくとも1つが誘電体窓2と異なってもよい。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
気密容器内で表面波励起プラズマにより被処理物を処理するプラズマ処理装置において、 底板にスロットアンテナが設けられたマイクロ波導波管と、 前記底板に対向配置され、前記スロットアンテナを通してマイクロ波を取り出し、表面波を発生、伝播させるマイクロ波導入窓と、 前記マイクロ波導入窓に並設され、前記表面波を伝播させる誘電体部材と、 前記気密容器と前記マイクロ波導入窓との間の気密を保持するために前記底板の周囲を取り囲むように配置されたシール部材と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6)：
H01L21/205 ,  B01J19/08 ,  C23C16/511 ,  C23F4/00 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46
FI (6)：
H01L21/205 ,  B01J19/08 E ,  C23C16/511 ,  C23F4/00 A ,  H05H1/46 B ,  H01L21/302 101D
F-Term (54)：
4G075AA22 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA51 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EE01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA10 ,  4K030KA37 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030LA11 ,  4K030LA18 ,  4K057DA16 ,  4K057DE01 ,  4K057DE06 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DM01 ,  4K057DM16 ,  4K057DM29 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB32 ,  5F004BC01 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F045AA09 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045EB02 ,  5F045EB10 ,  5F045EC01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM