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J-GLOBAL ID:200903054119372222

はんだ付け用処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996119332
Publication number (International publication number):1997307219
Application date: May. 14, 1996
Publication date: Nov. 28, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ポストフラックスを用いることなく、優れたはんだ付けの実現を可能とするとともに、はんだボールなどのはんだ付け不良が極めて少ないはんだ付け用処理方法を提供する。【解決手段】 プリント回路基板における金属ランド部位または金属スルーホール部位などの金属表面に施した有機防錆皮膜の表層を、プラズマを用いて除去する。これにより、ポストフラックスなどの融剤を用いることなく、はんだ接続不良のないはんだ付けを行うことができる。プリント回路基板のソルダレジストなどのはんだ付けしない部分の表面にもプラズマを照射して改質し、はんだボールなどの発生を抑制する。
Claim (excerpt):
プリント回路基板における有機防錆皮膜により防錆処理を施された金属表面に対しはんだ付けを行うに当たって、プラズマを用いて有機防錆皮膜の表層の除去および改質の少なくとも一方を行うことを特徴とするはんだ付け用処理方法。
IPC (7):
H05K 3/34 501 ,  B23K 1/19 ,  C23F 4/00 ,  C23F 11/00 ,  C23G 5/00 ,  H05K 3/26 ,  H05K 3/28
FI (9):
H05K 3/34 501 Z ,  B23K 1/19 H ,  B23K 1/19 C ,  C23F 4/00 A ,  C23F 11/00 C ,  C23F 11/00 B ,  C23G 5/00 ,  H05K 3/26 F ,  H05K 3/28 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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