ホトレジスト組成物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995254215
Publication number (International publication number)：1997096900
Application date： Sep. 29, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】酸発生剤を成分として含有するホトレジスト組成物について、断面形状が波打つことなく、垂直な側面をもつレジストパターンを与えることができ、しかもコンタクトホールの焦点深度幅特性、感度及び耐熱性が優れたものとする。【解決手段】 (A)酸によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成用樹脂成分及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2はそれぞれ非芳香族性基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有したホトレジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成用樹脂成分及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2はそれぞれ非芳香族性基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とするホトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特開平4-134347
特開平2-161444
特開平2-154266

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Cited by examiner (10)

特開平4-134347
特開平2-161444
特開平2-154266

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