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J-GLOBAL ID：200903054369561799

ホトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 充 ,  新田 和行 ,  羽田 英夫 ,  橋口 達也 ,  駒野 博司 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995254215
Publication number (International publication number)：1997096900
Application date： Sep. 29, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】 酸発生剤を成分として含有するホトレジスト組成物について、断面形状が波打つことなく、垂直な側面をもつレジストパターンを与えることができ、しかもコンタクトホールの焦点深度幅特性、感度及び耐熱性が優れたものとする。【解決手段】 (A)酸によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成用樹脂成分及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2はそれぞれ非芳香族性基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有したホトレジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成用樹脂成分及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2はそれぞれ非芳香族性基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とするホトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 特開平4-134347
  
• 特開平2-161444
  
• 特開平2-154266
  
• レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-110324   Applicant：信越化学工業株式会社
• 高感度の高解像度i-線ホトレジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-144327   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
• ネガ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-221373   Applicant：住友化学工業株式会社
• 非イオン性ポリグリコールを含有するフォトレジスト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-063937   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• ネガ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-044553   Applicant：住友化学工業株式会社
• 特開平1-124848
  
• 特開昭60-065072